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設備・装置
 
設備・装置
ボンドテスター
ボンドテスター基板上の接続端子に装置した半田ポールの接続強度、破断モード解析を行います。各種サイズの半田ポール、共晶・鉛フリー半田ポールいずれにも使用が可能でシェアー、プル測定も可能です。また、プル測定は、加熱法・常温法いずれも可能で鉛フリー対応の測定に有効です。
リフロー半田付け装置
リフローはんだ付け装置加熱条件下で半田ポールを基板に融着させる装置で、大気下でもN2雰囲気でも使用可能です。
集束イオンビーム加工観察装置
集束イオンビーム加工観察装置イオンビームを利用してめっき表面をエッチングし、断面構造を観察可能なサンプルを作成する装置です。半田ポールとめっき面との界面に生成した合金層、ボイド等の観察に使用されます。
走査電子顕微鏡
走査電子顕微鏡電解放出型電子による高解像形状測定が可能です。検出器は2次電子、反射電子の両方を有し、EDX装置も内蔵しています。貴金属めっきのナノレベルの粒径観察、集束イオンビームで加工しためっき断面の元素分析も可能です。
フーリエ赤外分光装置
フーリエ赤外分光装置赤外分光器(Avatar370)と赤外顕微鏡(Continuum)とを組み合わせたFT-IR装置で、めっき皮膜上のミクロンレベルの微少な異物の分析が可能です。
高周波プラズマ分光分析装置
高周波プラズマ分光分析装置めっき液などの溶液中の微量不純物の特定量分析に使用します。試料が高温プラズマ中で原子、イオン化されるので、通常の原子吸光法より感度が高く、真空式のためP.S.B系の分析が可能で、共存元素の影響を受けにくく、2チャンネルを使用した内部標準法により、正確・迅速にppm単位の定量ができます。
X線回析装置
X線回析装置析出皮膜の結晶面回析や残留応力測定、粉末サンプルの定性分析を行う装置です。
キャピラリー電気泳動分析装置
キャピラリー電気泳動分析装置試料溶液に通電することにより、成分元素イオンが各々の移動速度に応じた速さで泳動し、分離します。この分離が完了した等速泳動状態の電位こう配を測定し、各成分イオンの定性定量分析を行います。金属イオン、無機イオンから高分子有機イオンまで幅広く適用され、主にめっき液中の不純物イオンの分析や、有機および無機添加イオンの定量に使用します。
蛍光X線分析装置
蛍光X線分析装置近接元素の膜圧測定や、定例分析が精度良く行えます。Pd-Ni合金の比率測定も行えます。
オージェ分光分析装置
オージェ分光分析装置めっき表面の数ナノメーターの表面の元素分析を行います。アルゴンスパッター装置を内蔵しており、マイクロメーターレベルの深さ分析も可能で、実装時の加熱工程に伴う下地金属の拡散測定に有効です。
めっき実験室
めっき実験室貴金属めっきの試験はドラフト内に、めっき槽、温度調節装置、電流・電圧制御装置、流量計、pHメーターを持ち込んで行います。試験に使用しためっき液は、貴金属のタイプ(シアン金、非シアン金、シアン銀、非シアン銀、パラジウム、ニッケル、銅など)により分別され、回収工場にて処理・回収されます。ドラフトの排ガスはスクラバーにて吸収された後、排水処理装置にて浄化されます。
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